日本k-matsumi半導體DMA納米粒子測量裝置

日本k-matsumi半導體DMA納米粒子測量裝置
氣溶膠先經(jīng)中和器帶已知電荷分布 → 進入同軸圓柱形 DMA → 僅特定電遷移直徑粒子通過狹縫。
濃度計數(shù)
出 DMA 的 mono-mobile 粒子由 CNC（或 CPC）計數(shù) → 掃描電壓即可獲得 10 – 1000 nm 范圍內(nèi)的粒徑分布（dN/dlogDp）。
結(jié)果輸出
自動生成個數(shù)濃度、表面積、體積、質(zhì)量分布及平均粒徑、眾數(shù)、幾

產(chǎn)品型號：DMA-20
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2025-12-29
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詳細介紹

日本k-matsumi半導體DMA納米粒子測量裝置
日本k-matsumi半導體DMA納米粒子測量裝置

測量原理

電遷移分類
氣溶膠先經(jīng)中和器帶已知電荷分布 → 進入同軸圓柱形 DMA → 僅特定電遷移直徑粒子通過狹縫。
濃度計數(shù)
出 DMA 的 mono-mobile 粒子由 CNC（或 CPC）計數(shù) → 掃描電壓即可獲得 10 – 1000 nm 范圍內(nèi)的粒徑分布（dN/dlogDp）。
結(jié)果輸出
自動生成個數(shù)濃度、表面積、體積、質(zhì)量分布及平均粒徑、眾數(shù)、幾何標準偏差。

3. 關(guān)鍵規(guī)格

項目	規(guī)格
粒徑范圍	10 nm – 1000 nm（單級 DMA）
分辨率	64 – 256 通道 / 十倍程可選
濃度上限	10? 粒子/cm3（與稀釋器聯(lián)用可擴至 10?）
采樣流量	0.3 – 2 L/min 自動恒流
電壓掃描	10 – 10 000 V，線性或?qū)?shù)掃描 ≤ 60 s
重現(xiàn)性	計數(shù)濃度 ±5 %，粒徑 ±2 %
數(shù)據(jù)接口	USB-C + 模擬 0 – 10 V 輸出；附日文/英文軟件

4. 系統(tǒng)構(gòu)成

中和器：Kr-85 或 X-ray 型（低維護）
DMA 主機：不銹鋼電極，可拆式狹縫，便于清洗
CNC/CPC：內(nèi)置光學計數(shù)器，可擴展 2.5 nm 下限
稀釋器（可選）：旋轉(zhuǎn)盤式，稀釋比 1:10 – 1:1000
軟件：Windows 11 對應(yīng)，一鍵生成 CSV、ASCII、BMP 報告

5. 典型應(yīng)用

領(lǐng)域	測量對象
半導體	CMP 研磨液、晶圓清洗液中的納米顆粒；潔凈室氣溶膠監(jiān)控
汽車/電池	發(fā)動機排氣、EV 電池干法電極粉塵
醫(yī)藥/化妝品	噴霧劑、吸入粉體、脂質(zhì)體粒徑
環(huán)境	大氣納米顆粒、煙道 PM1.0、超細顆粒物源解析
功能材料	金屬納米膠體、量子點、陶瓷漿料

6. 特色與優(yōu)勢

狹縫可拆：30 s 完成維護，避免交叉污染
低死體積：響應(yīng)時間 < 3 s，適合在線快速切換
寬濃度兼容：自帶雙稀釋器自動切換，無需手動稀釋

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日本k-matsumi半導體DMA納米粒子測量裝置

測量原理

3. 關(guān)鍵規(guī)格

4. 系統(tǒng)構(gòu)成

5. 典型應(yīng)用

6. 特色與優(yōu)勢

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